AI数据中心互连战争:深度研报总结

从PCB到铜缆到光链路,互连是AI性能的骨干

附录六:CPO产业链各环节深度拆解

lasers(激光器)环节深度分析

激光器是CPO系统中光信号的产生源头,其性能直接决定了整个系统的功耗、可靠性和成本。当前CPO主要使用连续波(CW)激光器,与可插拔模块中集成的EML激光器有本质区别。

CW激光器的技术特点:

激光器供应链格局:

公司技术路线CPO相关产品2026年产能规划竞争优势
LumentumInP基CW激光器100mW-500mW多款产品扩产40%以上NVIDIA战略合作伙伴
CoherentInP基CW+EML200mW-400mW CW激光器InP产能翻3倍垂直整合(衬底到器件)
Sumitomo ElectricInP基CW激光器高可靠性CW激光器2023-28年产能翻倍电信级可靠性认证
源杰科技(Yuanjie)InP基CW激光器25mW-100mW CW激光器快速扩产中成本优势明显
华为海思InP基CW激光器100mW CW激光器主要自用与华为ICT设备深度整合

投资逻辑:Lumentum和Coherent凭借与NVIDIA的战略合作,将在CPO激光器市场占据70%以上份额。但随着更多厂商进入,2028年后激光器价格可能下降30-50%。

FAU(光纤阵列单元)环节深度分析

FAU是CPO系统中光信号从激光器到光波导的桥梁,其耦合效率直接影响系统功耗和信号质量。一个典型的CPO交换机需要18-36个FAU,每个FAU集成8-32根光纤。

FAU制造的三大技术壁垒:

  1. 光纤间距控制精度达±0.5μm:这相当于人类头发丝直径的1/100。传统机械加工无法达到此精度,必须使用主动对准+紫外固化工艺。
  2. 插入损耗要求<1.5dB:每个连接点的损耗都需要严格控制,否则累积损耗将导致系统无法正常工作。
  3. 温度循环可靠性:FAU需要在-40°C到+85°C的温度循环中保持性能稳定,这要求胶水、基座、光纤的热膨胀系数高度匹配。

FAU供应链格局:

关键投资洞察:FAU是CPO供应链中劳动密度最高的环节。自动化FAU生产设备(如All Ring的产品)将在2027年后显著降低制造成本,从而推动CPO普及。提前布局自动化设备的公司将获得超额收益。

测试设备环节深度分析

CPO的测试复杂度是传统可插拔模块的10倍以(上),因为:

测试设备供应链:

公司测试设备类型CPO相关产品单台价格区间2026年市场预期
Chroma ATE(2360.TT)晶圆级+模块级测试PIC晶圆测试仪、OE老化测试系统$50万-$200万优于大盘,CPO业务将占15%+
Teradyne(TER US)高速电气测试UltraFLEXplus ATE$100万-$300万未覆盖,EIC测试需求强劲
ficonTEC(被精测科技收购)光电混合测试300mm双面晶圆探针测试台$200万-$500万未覆盖,中国市场需求强劲
All Ring(6187.TT)FAU耦合设备自动光纤对准系统$50万-$150万未覆盖,2027年CPO设备收入开始放量
MPI(6223.TT)晶圆级探针台300mm光电混合探针卡$100万-$300万未覆盖,与Chroma形成竞争

测试设备的投资逻辑:设备供应商将先于CPO整机厂商获得订单,因为生产线建设需要提前6-12个月采购测试设备。Chroma ATE是最好的投资标的,其产品覆盖从晶圆到模块的全链条测试需求。

附录七:各公司投资价值深度拆解

TSMC(TSM,优于大盘,目标价$351)——生态护城河

市场对TSMC的CPO相关业务存在严重低估。投资者通常只关注其晶圆代工业务,而忽视了CPO带来的"生态锁定"效应。

TSMC在CPO时代的独特价值:

  1. COUPE平台唯一供应商:NVIDIA、Broadcom、Ayar Labs等所有主流CPO厂商都依赖TSMC的COUPE工艺。这不是简单的代工关系,而是技术合作伙伴关系。
  2. CoWoS封装产能垄断:CPO需要与CoWoS先进封装集成,而TSMC控制了全球>90%的CoWoS产能。即便Intel、三星试图进入CPO代工市场,也无法绕开CoWoS的生态壁垒。
  3. 前端到后端全链条整合:TSMC能够提供从EIC(6nm)到PIC(65nm SOI)再到CoWoS封装的"一站式服务",这大幅降低了CPO厂商的供应链复杂度。

估值分析:当前TSMC的P/E为7.6x(2027E),远低于同业(GlobalFoundries ~15x,UMC ~12x)。市场担心台海地缘风险,但忽视了TSMC在先进封装领域的技术护城河。我们认为CPO相关业务将在2027年为TSMC贡献$50亿+收入,占其总收入的~8%,但利润贡献将超过15%(因为毛利率更高)。

关键催化剂:(1)2026年下半年NVIDIA Quantum-X CPO交换机量产,TSMC COUPE产能利用率将首次突破80%;(2)2027年Intel EMIB-T如果获得Google采纳,将间接利好TSMC(因为TSMC是Intel的代工厂);(3)长期看,CPO将让TSMC从"晶圆代工"升级为"系统级解决方案提供商",估值体系有望从制造业向科技平台转型。

NVIDIA(NVDA,优于大盘,目标价$300)——从计算到互连的垂直整合

NVIDIA在CPO领域的布局远超市场理解。它不只是"采用CPO技术",而是在重新定义数据中心互连生态

NVIDIA CPO战略的三重价值:

风险因素:NVIDIA的CPO方案(Quantum-X)采用"可拆卸光引擎"设计,这在技术上更接近NPO而非真正的CPO。如果市场最终选择了"不可拆卸"的纯CPO方案(如Broadcom的路线),NVIDIA可能需要重新设计产品,造成短期竞争劣势。

Chroma ATE(2360.TT,优于大盘,目标价NT$1,660)——被低估的CPO设备之王

Chroma ATE是全球唯一具备CPO全链条测试能力的设备厂商。其产品覆盖:

  1. PIC晶圆测试:在晶圆切割前进行"已知好芯片(KGD)"筛选,避免将不良PIC封装到昂贵模块中。
  2. OE模块测试:测试光引擎的发射功率、波长精度、眼图质量等指标。
  3. FAU耦合测试:测试光纤阵列与光引擎的耦合效率。
  4. 系统级老化测试:在高温、高湿、温度循环条件下验证CPO系统的长期可靠性。

为什么Chroma被低估?

估值分析:当前Chroma的P/E为51.1x(2027E),看起来很贵。但考虑到CPO测试设备的爆发性和高毛利率,其2028年EPS可能达到NT$45以上,对应2028E P/E仅27x。当前是布局Chroma的最佳时间窗

欣兴电子(3037.TT,优于大盘,目标价NT$610)——ABF基板的隐形冠军

欣兴电子在ABF基板市场的地位类似于TSMC在晶圆代工市场的地位——技术领先、客户锁定、定价权强

为什么欣兴能在ABF基板市场持续领先?

  1. 与NVIDIA的深度绑定:NVIDIA高端GPU(H100、B100、R200)的ABF基板~50%由欣兴提供。这种深度合作关系让欣兴能够提前了解NVIDIA的未来技术路线图,从而提前进行产能规划。
  2. 受益于T-glass短缺:T-glass(低CTE玻璃纤维)是高端ABF基板的关键原材料,当前严重缺货。欣兴作为大客户,能够以更优先的供应权和更低的价格获得T-glass,从而挤压竞争对手(如景硕、SEMCO)的利润空间。
  3. EMIB-T的额外增量:如果Intel的EMIB-T技术获得市场采纳,欣兴将是主要受益者(因为EMIB-T将更多功能集成到基板中,提升了基板附加值)。我们预计EMIB-T将在2027年为欣兴贡献$3亿+收入。

风险因素:市场担心ABF基板价格战。我们的分析显示,由于T-glass短缺将持续到2028年,ABF基板价格战不会在2027年之前发生。欣兴的毛利率将在2026-27年持续改善。

揖斐电(Ibiden,4062.JP,优于大盘,目标价¥9,200)——日本高端制造的骄傲

揖斐电是全球高端ABF基板的绝对龙头,在NVIDIA市场占据>80%份额。其竞争优势源于:

投资逻辑中的关键争议:揖斐电的估值看起来很贵(2027E P/E 64.3x),但需要考虑:

  1. 揖斐电的ABF基板业务具有类奢侈品属性——高端客户愿意为"零缺陷"支付30-50%的溢价。
  2. EMIB-T业务将在2028年后为揖斐电打开第二个增长曲线,市场尚未对此充分定价。
  3. 日元贬值趋势如果延续,将显著提升揖斐电的出口竞争力(因为其成本主要是日元,收入主要是美元/新台币)。
关键风险提示:如果NVIDIA Rubin销售不及预期,或者EMIB-T技术被市场冷落(CSP更倾向于TSMC CoWoS),揖斐电的估值将面临显著回调压力。投资者需要密切关注2026年下半年的Rubin量产进度。

附录八:多情景分析——CPO普及速度的三种可能

CPO的普及速度存在显著不确定性。我们构建了三种情景,并分析每种情景下的投资影响。

基准情景(概率50%)——稳步推进

假设:

投资影响:

乐观情景(概率30%)——快速普及

假设:

投资影响:

悲观情景(概率20%)——延迟普及

假设:

投资影响:

投资策略建议:在当前时点(2026年5月),我们建议采取"基准情景"投资策略——重点配置CPO产业链中的"确定性环节"(如TSMC、Chroma ATE),同时用小仓位博弈"乐观情景"(如All Ring、FOCI)。避免使用高杠杆押注单一情景。

附录九:CPO对数据中心架构的深远影响

CPO不仅是互连技术的演进,更是数据中心架构的历史性重构。其影响将延伸到供电、冷却、机房设计、软件架构等多个层面。

对供电架构的影响

CPO的高集成度显著改变了数据中心的功率密度分布

投资影响:Vicor(VICR US,未覆盖)是数据中心HVDC供电技术的领导者,将显著受益于CPO普及。当前Vicor的股价尚未反映这一长期趋势。

对冷却架构的影响

CPO的高功率密度(>500 W/cm²)让传统风冷彻底失效。新的冷却方案包括:

  1. 液冷(Liquid Cooling):在交换机内部集成液冷板(Cold Plate),通过绝缘液体(如3M Novec)带走热量。Broadcom的TH6-Davisson已经采用液冷设计。
  2. 浸没式冷却(Immersion Cooling):将整个交换机浸没在绝缘液体中。这种方式冷却效果最好,但成本较高,且需要处理液体的挥发和泄漏问题。
  3. 微流体冷却(Microfluidic Cooling):在芯片内部集成微小流体通道(通道直径~100μm),实现"芯片级"冷却。这是长期方向,但商业化尚需5-10年。

投资影响:Green Revolution Cooling(GRC,私人公司)Submer(私人公司)等浸没式冷却技术公司将受益于CPO普及。A股中,英维克(002837.CH)高澜股份(300499.CH)正在布局液冷技术,值得关注。

对软件架构的影响

CPO不仅仅是硬件技术的变革,还将推动数据中心软件栈的重构

投资影响:NVIDIA(通过其Cumulus网络操作系统)Arista Networks(ANET,未覆盖)将在CPO软件栈中占据领导地位。传统网络设备公司如果不具备软件开发能力,将在CPO时代被边缘化。

基于Bernstein Research于2026年5月8日发布的97页英文研报《ARTIFICIAL INTELLIGENCE: INSIDE THE WAR FOR AI DATA CENTER CONNECTIVITY》进行翻译、总结与深度解读

来源:Bernstein Research 分析师:Alex Wang, Stacy Rasgon, Mark Li, David Dai等 发布日期:2026年5月8日

目 录

  1. 第一章:共封装光学(CPO)——数据中心互连战争
    • 1.1 铜与光技术并行演进
    • 1.2 为什么需要CPO?
    • 1.3 NVIDIA与Broadcom的CPO竞赛
    • 1.4 TSMC的COUPE制造工艺详解
    • 1.5 CPO大规模采用的障碍
    • 1.6 FAU(光纤阵列单元)的挑战
    • 1.7 激光器与InP衬底短缺
    • 1.8 调制器技术瓶颈
    • 1.9 CPO出货时间表:2026下半年至2028上半年
    • 1.10 过渡方案:LPO与NPO
    • 1.11 铜互连的未来:CPC技术
  2. 第二章:CPO价值链全景图
    • 2.1 CPO成本分析:比可插拔方案贵10%
    • 2.2 代工厂格局:TSMC、GlobalFoundries、Tower
    • 2.3 激光器、FAU和测试设备的新机遇
    • 2.4 关键组件供应商详解
    • 2.5 测试设备供应商
    • 2.6 CPO创业公司版图
    • 2.7 Google OCS:另一条路径
  3. 第三章:AI PCB基础——技术与供应链
    • 3.1 PCB市场总览
    • 3.2 多层PCB(MLPCB)
    • 3.3 高密度互连(HDI)
    • 3.4 PCB/HDI原材料供应链
    • 3.5 IC基板市场
    • 3.6 ABF基板技术路线
    • 3.7 玻璃芯基板(GCS)
    • 3.8 ABF原材料:T型玻璃与ABF薄膜
  4. 第四章:AI PCB——玩家、定位与盈利能力
    • 4.1 行业格局概览
    • 4.2 AI推动强劲营收增长
    • 4.3 资本支出强度分析
    • 4.4 AI产品的高利润率
    • 4.5 欣兴电子(Unimicron)投资亮点
    • 4.6 揖斐电(Ibiden)投资亮点
    • 4.7 味之素(Ajinomoto)投资亮点
  5. 第五章:投资展望
    • 5.1 投资评级汇总
    • 5.2 关键投资主题
    • 5.3 风险因素
    • 5.4 深度投资分析:各公司详细解读

第一章:共封装光学(CPO)——数据中心互连战争

1.1 铜与光技术并行演进:AI数据中心互连现状

AI数据中心的演进紧密遵循着规模扩展定律:通过增加算力、训练数据和模型参数来提升性能。AI基础设施通过两种模式快速扩张——纵向扩展(Scale-up)横向扩展(Scale-out)。纵向扩展是指在单一系统内增加资源,如在单个机架或节点中安装更多AI加速器以提升性能;横向扩展则通过连接更多机架形成更大集群来扩展容量。

这种算力的指数级增长推动了对互连带宽前所未有的需求。纵向扩展架构比横向扩展系统需要更高的带宽,因为大语言模型(LLM)训练依赖于张量并行和专家并行等并行计算方法,这些方法在紧密耦合的纵向扩展集群内涉及密集的数据交换。

目前,铜互连光互连是AI数据中心的两大主要连接方式。铜互连主要用于纵向扩展场景中的机架内连接;光链路则提供高带宽(≥224Gbps)、长距离(≥10米)、低衰减和太比特级可扩展性,因此成为横向扩展架构中机架间链路的主流方案。

在NVIDIA的GB300中,Superchip(GPU+CPU)与交换芯片之间的通信依赖铜链路,而计算托盘上的ConnectX网络接口卡(NIC)连接到800Gb/s光收发器。这些收发器将电信号转换为光信号,并通过Quantum-X InfiniBand或Spectrum-X以太网架构实现横向扩展连接。

2000年至2025年,交换容量以每年40%的速度增长,AI加速器的快速演进和 数据传输需求的激增使这一趋势没有任何减速迹象。SerDes驱动短距离电气走线或铜缆进入光模块,然后将电信号转换为光信号进行远距离传输。SerDes每通道I/O带宽增长速度远慢于整体交换吞吐量增长,迫使厂商在每个交换机中增加更多通道。因此,光链路和模块的增长速度甚至快于交换机出货量。

到2025年,800G模块年出货量达到1000万个,创下新纪录——而100G模块达到这一里程碑花了整整十年。随着1.6T收发器现已量产,Coherent和LightCounting预计仅需四年就能达到1000万片的销量。

光收发器市场正在经历快速增长。LightCounting估计2025年光收发器及相关产品的销售额超过230亿美元,同比增长50%。以太网光收发器约占其中的74%,达到170亿美元,同比增长60%。

AI数据中心网络架构正在经历深刻变革。传统的三层叶脊(Leaf-Spine)架构正逐步向超平面(Hyper-plane)架构演进,这对互连技术提出了更高要求。在超平面架构中,任何计算节点都可以在单一跳跃内与其他任何节点通信,这就要求网络具有极高的二分带宽(Bisection Bandwidth)。CPO技术正是为满足这一需求而生,它通过将光引擎与交换芯片共封装,大幅缩短了电信号的传输距离,从而降低了功耗和信号衰减。

从更宏观的视角来看,全球数据中心资本支出在2025年突破2500亿美元,其中网络设备的占比从2019年的约8%上升至2025年的约15%。这一趋势表明,互连技术正在成为AI数据中心最具价值的投资方向之一。Bernstein预计,到2030年,AI数据中心的互连市场规模将超过400亿美元,年复合增长率达到28%。

1.2 为什么需要CPO?

对于可插拔光收发器,安装在交换机或计算托盘前面板上的收发器笼通常距离XPU或交换芯片15-30厘米。因此需要数字信号处理器(DSP)来恢复和处理信号。然而,这种性能是以更高的功耗为代价的。NVIDIA估计一个1.6Tbps模块可能消耗约30瓦,其中DSP占了一半以上。

传统可插拔方案依赖劳动密集型组装和昂贵的组件,如DSP、重定时器和电吸收调制激光器(EML),这些都推高了物料清单(BOM)成本并制约了可扩展性。此外,光模块通常具有约100FIT(时间故障率)的硬故障率,相当于每10,000个光模块每年约9次故障。灰尘污染或连接器和接口敏感性导致的软故障将进一步造成正常运行时间和可靠性问题。

为了提升功耗和热效率,行业正转向CPO解决方案。在这种新型封装技术下,光引擎与芯片集成在同一基板上,从而增强了信号完整性,消除了DSP,使数据传输可以通过更低功耗的SerDes实现。

图3:传统交换机配可插拔光收发器

图3:传统交换机配可插拔光收发器

图4:CPO交换机架构——光引擎集成在交换芯片周围

图4:CPO交换机架构——光引擎集成在交换芯片周围

功耗效率提升
3.5x
NVIDIA CPO vs 传统收发器
信号完整性提升
63x
NVIDIA CPO vs 传统方案
网络弹性提升
10x
大规模部署时
部署速度提升
1.3x
NVIDIA CPO方案

NVIDIA声称其基于CPO的交换机在功耗效率方面比传统光收发器高出3.5倍,信号完整性提高63倍,大规模网络弹性提升10倍,部署速度快1.3倍。Broadcom报告称其CPO交换机的每比特光学成本降低40%,这得益于组件数量减少和用连续波(CW)激光器替代昂贵的EML激光器,以及更简化的半导体设计和制造流程。

Meta对Broadcom Bailly CPO交换机的测试结果表明,在一个51.2T交换机系统中可节省超过500瓦的功耗。

除了功耗优势,CPO还在密度方面带来了显著改善。传统可插拔光模块受限于前面板物理空间和散热限制,每个交换机端口密度存在上限。CPO通过将光引擎集成在交换机封装内部,可以在相同空间内实现3-5倍的端口密度提升。这对于构建超大规模AI集群至关重要,因为在数千个GPU组成的训练集群中,网络端口数量往往成为系统扩展的瓶颈。

CPO还带来了可靠性方面的潜在优势。虽然将光引擎集成在交换机内部似乎增加了维修难度,但从统计角度看,CPO消除了可插拔模块中容易故障的连接器和可插拔机械结构。根据Broadcom的可靠性工程分析,CPO系统的年度链路故障率(ALFR)可以比可插拔方案低5-10倍,主要因为消除了连接器接触不良、模块松动等常见故障模式。

1.3 NVIDIA与Broadcom的CPO竞赛

NVIDIA和Broadcom是CPO行业的先锋。在2025年GTC大会上,NVIDIA展示了三款不同的CPO交换机,包括Quantum X800-Q3450、Spectrum 6810和Spectrum 6800。Broadcom则在2022年推出了第一代CPO交换机Humboldt,2024年推出第二代产品Bailey,并预计下一代产品Davisson将于2027年达到商用就绪状态。

Broadcom已将早期CPO系统以小批量发运给腾讯,而其最新产品已在Meta进行测试。值得注意的是,Broadcom的Humboldt和Bailey(2022-24年推出)基于硅品精密工业(SPIL)的扇出型晶圆级封装(FOWLP),而公司未来几代产品可能会迁移到TSMC的CPO平台。

两家公司的关键差异在于:

NVIDIA vs Broadcom:CPO交换机关键指标对比
指标Quantum X800-Q3450Spectrum 6810Spectrum 6800TH4-HumboldtTH5-BaillyTH6-Davisson
厂商NVIDIABroadcom
试产时间2025下半年2026下半年2026下半年202220242026
网络标准InfiniBand以太网以太网以太网以太网以太网
交换ASICQuantum-3Spectrum-6Spectrum-6Tomahawk 4Tomahawk 5Tomahawk 6
单封装吞吐量28.8Tbps102.4Tbps102.4Tbps25.6Tbps51.2Tbps102.4Tbps
交换芯片数414111
总带宽115.2Tbps102.4Tbps409.6Tbps25.6Tbps51.2Tbps102.4Tbps
SerDes速率(Gbps)200G200G200G100G100G200G
光连接DRDRDRDRFRDR4
图5:Broadcom路线图显示铜在功耗方面仍优于传统CPO,而CPO在2028-29年可能表现出更好的能效

图5:Broadcom路线图显示铜在功耗方面仍优于传统CPO,而CPO在2028-29年可能表现出更好的能效

图6:NVIDIA Quantum-X800 InfiniBand CPO交换机

图6:NVIDIA Quantum-X800 InfiniBand CPO交换机

图7:NVIDIA Quantum-X800 InfiniBand CPO交换机包含6个光子组件,每个组件内含3个光引擎

图7:NVIDIA Quantum-X800 InfiniBand CPO交换机包含6个光子组件,每个组件内含3个光引擎

从更深层的技术路线来看,NVIDIA和Broadcom在CPO实现路径上选择了不同的技术方向:

从供应链战略来看,NVIDIA采取了高度垂直整合的策略,不仅设计交换芯片和光引擎,还通过战略投资锁定了关键供应链产能。2026年3月,NVIDIA宣布分别向Lumentum和Coherent投资20亿美元,确保CPO激光器的长期供应。相比之下,Broadcom更加依赖外部供应链合作伙伴,其CPO产品涉及更多第三方供应商。

市场接受度方面,NVIDIA的CPO交换机率先获得了超大规模云服务提供商的认可。CoreWeave、Lambda和德州高级计算中心已确认为首批采用者。而Broadcom的CPO产品主要在Meta进行测试验证。从商业化进度来看,NVIDIA略微领先,但其可拆卸光引擎设计在技术上不如Broadcom的真正CPO方案先进。

1.4 TSMC的COUPE制造工艺详解

CPO的制造有多种方法,但考虑到NVIDIA、Broadcom等主要客户的采用,TSMC的方法很可能在未来多年成为主流方案

TSMC的CPO技术的核心是其COUPE(紧凑型通用光子引擎,COmpact Universal Photonic Engine)。COUPE是TSMC用来制造光引擎(OE)的技术,而OE是光信号和电信号相互转换的地方。整个制造流程可以分为以下关键步骤:

第一步:EIC和PIC晶圆制造

TSMC首先在一个晶圆上生产EIC(电子IC)(目前采用6纳米工艺),在另一个晶圆上生产PIC(光子IC)(目前采用65纳米绝缘硅(SOI)工艺)。EIC晶圆被切割成芯片并进行测试。然后将一个经过验证的好芯片(KGD)翻转,通过无凸块混合键合(TSMC称为SoIC-X)面朝面键合到PIC晶圆上。

第二步:3D堆叠

PIC晶圆也被切割成芯片,使每个PIC芯片顶部都有一个EIC芯片的连接。它们之间的连接允许电信号和光信号耦合和转换,使用混合键合缩短了连接距离。TSMC还在OE顶部放置硅基微透镜,底部放置金属反射器。这些与混合键合实现的短距离共同帮助提高了OE的转换效率。

第三步:FAU(光纤阵列单元)耦合

当OE准备好后,一个承载多根光纤的FAU将附在OE顶部,使光纤传输的光束经过镜面反射后精确照射到微透镜上。这是整个制造过程中精度要求最高的环节之一。

第四步:CoWoS集成

TSMC将COUPE与CoWoS的集成分为两个阶段。第一阶段将OE封装在CoWoS结构的基板上——这大概率会外包给日月光(ASE),因为TSMC一直将CoWoS生产中的"os"部分外包给ASE。第二阶段将OE附在中介层上——TSMC将亲自处理,因为目前的做法是TSMC内部处理CoWoS的所有"CoW"部分。

图9:COUPE工艺中,TSMC通过晶圆到芯片面朝面混合键合将EIC和PIC键合

图9:COUPE工艺中,TSMC通过晶圆到芯片面朝面混合键合将EIC和PIC键合

图10:TSMC在COUPE顶部放置硅基微透镜,底部放置金属反射器以提高转换效率

图10:TSMC在COUPE顶部放置硅基微透镜,底部放置金属反射器以提高转换效率

图11:通过将FAU与COUPE结构顶部的微透镜精确对准,光纤传输的光信号可耦合进PIC和EIC

图11:通过将FAU与COUPE结构顶部的微透镜精确对准,光纤传输的光信号可耦合进PIC和EIC

COUPE的演进路线与微环调制器(MRM)的挑战

TSMC在2025年8月和9月展示的路线图揭示了几个关键信息:

关于耦合技术,COUPE支持光栅耦合(GC)和边缘耦合(EC),但TSMC和NVIDIA目前专注于光栅耦合。TSMC的CPO理论上支持GC和EC,但我们认为TSMC会优先提供GC。

竞争格局分析:Intel也有硅光子和CPO技术,GlobalFoundries早期曾为Ayar Labs提供CPO服务,但输给了TSMC。ASE也曾为Broadcom早期CPO产品进行封装。然而,考虑到CPO需要与CoWoS等先进封装技术集成、需要先进前端工艺节点(如EIC的6nm),以及TSMC和NVIDIA共同建立的规模和生态系统,我们认为TSMC的CPO方案更具竞争力,并将巩固TSMC作为AI处理器和网络芯片默认制造商的地位。

微环调制器(MRM)的热稳定性挑战

MRM是CPO中的关键组件,用于将电信号调制到光载波上。与MZM(马赫-曾德尔调制器)和EAM(电吸收调制器)相比,MRM具有极小尺寸(100-200μm²)、低功耗和高带宽密度的优势。然而,MRM对温度极其敏感,温度波动仅1°C就可能导致谐振波长漂移,从而严重影响调制性能。

NVIDIA和TSMC正在合作开发先进的热管理系统和的控制算法来解决这一挑战。根据2026年3月的行业技术会议披露,解决方案可能包括:(1)集成微型热电冷却器(TEC)来稳定MRM的工作温度;(2)使用监控光电二极管实时监测谐振波长,并通过反馈控制电路进行动态调谐;(3)采用特殊封装材料降低热阻。

尽管技术挑战依然存在,MRM的高密度集成能力使其成为未来CPO平台的核心技术。与需要较大芯片面积的MZM相比,MRM可以在相同面积内实现更多通道的集成,这对于实现3.2T及以上速率的CPO至关重要。

图12:TSMC 2025年9月路线图揭示了CPC作为CPO被交换芯片采用前的过渡步骤

图12:TSMC 2025年9月路线图揭示了CPC作为CPO被交换芯片采用前的过渡步骤

图13:TSMC 2025年8月路线图显示CPO将首先被交换芯片采用(OE在基板上),后期被XPU采用(OE在中介层上)

图13:TSMC 2025年8月路线图显示CPO将首先被交换芯片采用(OE在基板上),后期被XPU采用(OE在中介层上)

图14:TSMC计划在未来支持更高的传输速度和更多的光纤数量

图14:TSMC计划在未来支持更高的传输速度和更多的光纤数量

1.5 CPO大规模采用的障碍

尽管CPO的前景光明,但其大规模采用仍面临多重障碍,这些障碍既有技术层面的,也有客户采用倾向层面的。

技术层面的主要挑战:

  1. 复杂的封装和制造流程——伴随良率问题和测试困难。CPO的制造涉及多个精密步骤,包括混合键合、FAU对准、光学耦合等,每一步都需要极高的精度控制,任何微小的偏差都可能导致整个组件报废。
  2. 光子器件制造困难——包括高效的波导到光纤耦合和热波动下的波长稳定性。光子器件的制造精度要求远超传统电子器件,尤其是在波长稳定性方面,温度变化可以导致严重的性能下降。
  3. 关键组件短缺——如激光器和磷化铟(InP)衬底。高质量的激光器是CPO系统的核心组件,但当前供应严重不足,限制了CPO的大规模生产。
  4. 热管理挑战——源于紧凑封装和升高的功率密度。调制器的热敏感性是一个突出问题,温度变化可以显著影响调制器的性能。
  5. 缺乏行业统一的标准框架——标准化的缺失使得不同厂商的CPO产品难以互通,增加了CSP(云服务提供商)的采购和管理成本。

客户采用层面的挑战:

关键风险提示:Meta在2025年9月的测试结果表明,Bailly CPO的年度链路故障率(ALFR)比可插拔方案好5倍,但测试期仍然有限且在实验室环境中进行。在数据中心实际部署环境中,CPO的长期可靠性仍有待验证。

1.6 FAU(光纤阵列单元)的挑战

FAU在精确定义的间距上固定多根光纤,以实现与PIC上光波导的高效耦合,是CPO的关键组件之一。FAU制造需要对光纤间距进行极其严格的控制,以实现低插入损耗和高封装密度,要求微米级的对准精度。然而,FAU组装仍然严重依赖熟练的手工劳动,这限制了良率和可扩展性。

图15:FAU结构——将多根光纤固定在精确间距上

图15:FAU结构——将多根光纤固定在精确间距上

图16:边缘耦合和光栅耦合是将光纤光耦合到光引擎的两种常用方法

图16:边缘耦合和光栅耦合是将光纤光耦合到光引擎的两种常用方法

Broadcom的早期CPO产品采用边缘耦合,因为公司优先考虑性能。但我们认为NVIDIA倾向于光栅耦合,TSMC也偏好光栅耦合并将首先提供GC。Broadcom在其更新的CPO产品中也很可能采用光栅耦合。

FAU制造瓶颈与自动化机遇

当前FAU生产高度依赖手动光纤对准和粘接,这不仅限制了产能扩张速度,也导致产品一致性难以保证。根据供应链调研,全球具备高质量FAU量产能力的供应商仅有不到10家,其中TFC Optical、Senko、FOCI是主要参与者。

随着CPO逐步进入量产阶段,FAU自动化制造设备需求将快速增长。All Ring等公司正在开发自动光纤对准和 bonding设备,这些设备可以将FAU生产从劳动密集型转向资本密集型,显著提高良率和产能。All Ring预计CPO设备收入将在2026年底至2027年开始显著增长

1.7 激光器与InP衬底短缺

在当今的数据通信可插拔市场中,VCSEL(垂直腔面发射激光器)广泛用于短距离多模400G和800G链路(≤100米),而EML(电吸收调制激光器)和带CW激光器的硅光子学则是较长距离单模400G和800G以及演进中1.6T模块的主要光源技术。

在CPO中,调制功能移至芯片级的PIC上(例如通过微环调制器MRM),而光生成由外部CW激光器提供。这种设计使高功率CW光源远离高温CPU和ASIC,改善了热管理,并允许在不触碰OE封装的情况下更换故障激光器。

然而,CPO需要超高功率CW二极管,每个器件需要提供数百毫瓦(mW)的功率,这反过来需要专门的 epitaxy工艺和谨慎的热设计。InP衬底是CW和EML激光器的关键材料,市场目前非常紧张,反映了光收发器需求激增和中国对铟化合物的更严格管控。

主要供应商扩产动态:

图17:住友电工目标从2023年到2028年将InP衬底产能增加一倍以上

图17:住友电工目标从2023年到2028年将InP衬底产能增加一倍以上

图18:Coherent在FY2024-FY25将InP产能增加了三倍,2026年将增加更多

图18:Coherent在FY2024-FY25将InP产能增加了三倍,2026年将增加更多

NVIDIA的战略投资:2026年3月2日,NVIDIA宣布分别向Lumentum和Coherent投资20亿美元,同时签署多年期、非独家合作伙伴关系,包括大量采购承诺以及激光器和光网络产品的未来产能获取权或产能权利。这一举动表明NVIDIA对CPO激光器供应链的高度重视。根据协议条款,NVIDIA将获得Lumentum和Coherent CPO激光器产能的优先采购权,这意味著其他CPO厂商可能面临激光器供应紧缺的风险。

中国对铟化合物的出口管控影响

铟是生产InP衬底的关键原材料,而中国是全球最大的铟生产国,占全球产量的约60%。2025年以来,中国对铟化合物实施了更严格的出口管控,导致全球InP衬底供应进一步紧张。这一地缘政治因素正在推动非中国供应商加速扩产,同时也促使CPO厂商寻找InP的替代材料方案。

潜在替代方案包括:(1)硅基激光器,通过在硅片上直接生长III-V族材料来实现激光器功能;(2)薄膜铌酸锂(TFLN)调制器,利用铌酸锂优异的电光特性实现低功耗调制。这些替代技术仍处于研发阶段,预计在2028年之前难以实现大规模商业化。

1.8 调制器技术瓶颈

调制器将电数据转换为光信号,三种主流技术的关键差异如下:

参数MZM(马赫-曾德尔调制器)EAM(电吸收调制器)MRM(微环调制器)
尺寸(μm²)~12,000~250100-200
热稳定性是(>50°C)是(>50°C)否(<1°C)
功耗
光带宽光宽带30nm窄带
WDM适用性需外部复用/解复用器中等原生WDM,每个环=1个波长通道

在CPO中,MRM因其极小的占用面积、低功耗和高带宽密度而备受关注,这也是NVIDIA选择基于MRM方案的原因。MRM位于PIC芯片上,将XPU或ASIC的电数据印记在外部CW激光器的光载波上;其谐振行为也使其天然适合密集波分复用(WDM),每个环选择和调制特定波长。

但MRM的权衡在于对温度和制造变化高度敏感。NVIDIA正与TSMC合作解决制造公差问题并实施稳健的控制方案。

不同调制器技术的商业化进展

从供应链成熟度来看,EAM技术最为成熟,已被广泛应用于EML激光器中。MZM技术在硅光子公司(如Intel、Infinera)的产品中已实现量产。而MRM技术仍处于商业化前期,主要挑战包括:

  1. 热调谐功耗:为维持谐振波长稳定,MRM需要持续的热调谐功率,这在一定程度上抵消了其低功耗优势。
  2. 波长锁定复杂性:每个微环都需要独立的波长锁定电路,这增加了系统复杂性和成本。
  3. 制造公差控制:MRM的谐振波长对波导尺寸极其敏感,要求纳米级制造精度。

尽管存在这些挑战,MRM的超高集成密度使其成为未来CPO平台的首选技术。NVIDIA和TSMC的合作重点正是解决MRM的制造和控制难题,一旦突破,将为CPO的大规模采用铺平道路。

图19:NVIDIA与TSMC合作应对MRM的制造和控制挑战

图19:NVIDIA与TSMC合作应对MRM的制造和控制挑战

1.9 CPO出货时间表:2026下半年至2028上半年

尽管面临诸多挑战,CPO开发者对大规模采用保持乐观。根据我们的分析,CPO将首先在横向扩展网络中采用,然后逐步延伸到纵向扩展连接。

NVIDIA的路线

Broadcom的路线

供应链公司的混合反应

Bernstein核心判断:CPO在2026下半年的出货将以小批量、面向横向扩展为主,主要目标是收集市场反馈和验证供应链准备情况。纵向扩展的部署可能在2028下半年开始,因为行业需要更多时间在真实条件下验证CPO可靠性,然后才能将其集成到高价值XPU中。LightCounting预计CPO的大规模出货将在2028年开始。
为什么CSP在未来2-3年仍偏好可插拔收发器: (1) CPO架构中光子组件嵌入交换机,任何故障通常需要更换整个交换机或返厂维修;(2) 与光收发器市场相比,CPO市场将高度集中,削弱CSP的议价能力;(3) 历史上,HVDC供电、PCB背板、CoWoP、微通道盖板等新技术的成熟都花费了较长时间,可靠性和供应链稳健性与理论优势同样重要。

1.10 过渡方案:LPO与NPO

由于CPO不太可能在近期大规模采用,交换机和光学厂商正在推出过渡方案,其中LPO(线性可插拔光学)NPO(近封装光学)是最实用的选择。

LPO(线性可插拔光学)

LPO是传统可插拔模块的演进版本,移除了DSP,主要依靠线性组件(如跨阻放大器TIAs和驱动器)来处理信号损耗。这降低了功耗、延迟和BOM成本,同时复用了现有的可插拔生态系统。800G LPO已实现商用量产。然而,由于光学器件仍位于前面板,距离XPU/ASIC比NPO或CPO更远,电气走线更长,增加了损耗和链路功耗。

NPO(近封装光学)

NPO在架构上更接近CPO;OE安装在独立的基板/PCB上,并插入ASIC附近的插座中,使其可拆卸,便于维护。NVIDIA当前标记为"CPO"的方案实际上遵循NPO模型,因为其OE是可拆卸的而非永久共封装的。

不同方案对比

指标DSP可插拔LPONPOCPO有源铜无源铜
功耗(1.6T)30W10-12W9W5-8W2.5W0W
传输距离100s m100s m100s m100s m4m1m
可维护性高(可热插拔)
制造复杂度

传统光收发器公司自然适合LPO,因为它基于相同的模块形态因子、光学器件和供应链。Innolight和Eoptolink等厂商已经出货了800G LPO产品。相比之下,它们的NPO产品仍在开发中,因为NPO需要半导体级封装和与ASIC的紧密集成,与传统的可插拔模块组装差异显著。

LightCounting预计到2030年,LPO的出货量将超过CPO。

1.11 铜互连的未来:CPC技术

随着带宽不断提升,铜的实际传输距离不断缩短。在224Gbps带宽下,无源直连铜缆(DAC)通常限制在约2米,而有源铜缆(AEC)可将铜的传输距离扩展到约7米,使铜主要用于很短距离和机架内应用。

CPC(共封装铜)技术很可能延长铜在AI数据中心中的生命周期。与传统铜方案相比,CPC将高速铜缆连接器直接集成到ASIC或交换封装中,绕过PCB走线。它避免了大量板级损耗,使即使是448Gbps级别的铜链路在技术上也可行。

与CPO相比,CPC保持与现有铜或连接器生态系统的兼容性。它具有显著的成本优势,面临的集成风险更少,可能为铜在下一代AI基础设施中提供更长的使用窗口。LightCounting预计铜缆将在2029年保持约一半的1.6T市场份额。

投资提示:立讯精密(Luxshare)是GB300铜互连的新供应商,与Amphenol竞争。立讯精密很可能参与Vera Rubin平台。对于纵向扩展解决方案,铜在2026-27年仍将是主流,CPC可能延长其生命周期,立讯精密等厂商将受益。

CPC技术的详细分析

CPC的核心创新在于将连接器直接集成到封装基板上,消除了传统PCB走线引入的信号衰减。根据Samtec等连接器厂商的技术白皮书,CPC可以将信号传输距离缩短80%以上,从而支持在448Gbps及更高速度下实现可靠传输。

CPC的主要应用场景包括:(1)XPU之间的纵向扩展连接;(2)交换芯片与ASIC之间的短距离互连;(3)内存与处理器之间的高带宽接口。在这些场景中,CPC可以提供比传统PCB走线更优的信号完整性和更低的功耗。

从供应链角度来看,CPC主要涉及高速连接器先进封装基板两个环节。立讯精密、Amphenol等连接器厂商正在积极开发CPC-compatible产品,而欣兴电子、揖斐电等基板厂商则在研发支持CPC的先进基板技术。

第二章:CPO价值链全景图

2.1 CPO成本分析:比可插拔方案贵10%

通过将OE与XPU或交换芯片集成,CPO相比可插拔光收发器提供更优的功耗效率、信号完整性和网络弹性。我们估计OE占CPO的BOM约45%。虽然CPO OE+ELS的BOM低于1.6T收发器,但一旦包含交换厂商(如NVIDIA)的利润空间,客户的前期总成本至少高出10%。

光引擎(OE)
44%
CPO BOM占比
交换芯片
17%
CPO BOM占比
外部光源(ELS)
13%
CPO BOM占比
CPO总成本
~$70K
Quantum CPO交换机(不含利润)
图20:NVIDIA Quantum CPO交换机包含6个光子组件,每个组件内含3个光引擎

图20:NVIDIA Quantum CPO交换机包含6个光子组件,每个组件内含3个光引擎

图21:每个交换芯片包含来自18个ELS单元的36个激光输入,以及288条数据链路

图21:每个交换芯片包含来自18个ELS单元的36个激光输入,以及288条数据链路

图22:每个OE通过FAU连接18根光纤

图22:每个OE通过FAU连接18根光纤

NVIDIA的Quantum CPO交换机包含4个ASIC,每个ASIC周围有18个OE(每个子组件3个OE,共6个子组件),由18个ELS供电,每个ELS包含8个CW激光器。即将推出的Spectrum 6810将把带宽/OE升级至3.2Tb/s。更强大的Spectrum 6800包含4个Spectrum-6 ASIC,总带宽达409.6TB/s。

CPO成本结构的长期演进

尽管当前CPO成本高于可插拔方案,但随着技术成熟和规模效应,成本差距有望缩小。根据SemiAnalysis的分析,到2028年,CPO的BOM成本可能降至与可插拔方案持平甚至更低的水平。主要驱动因素包括:

  1. 激光器成本下降:随着InP衬底产能扩张和6英寸晶圆采用,CW激光器成本将显著降低。
  2. 封装良率提升:TSMC的COUPE工艺良率将从当前的约70%提升至2028年的90%以上。
  3. 测试成本优化:自动化测试设备的普及将降低CPO测试成本。
  4. 供应链竞争:更多厂商进入CPO供应链将加剧竞争,推动价格下降。

2.2 代工厂格局:TSMC、GlobalFoundries、Tower

TSMC(优于大盘评级)

作为XPU制造的领导者,TSMC也在与众多客户和合作伙伴合作创造CPO解决方案方面发挥主导作用,并将其与前端晶圆和先进封装服务集成。TSMC CPO平台中最引人注目的产品是COUPE。

虽然TSMC正在引领多家公司将CPO从概念转化为商业化,但我们认为对TSMC而言,CPO的直接收入贡献在近期内有限。然而,CPO很可能是一项补充性技术,将加强TSMC在前端晶圆和先进封装服务方面的地位。

GlobalFoundries(未覆盖)

GlobalFoundries将其硅光子产品品牌化为"Fotonix"。该公司比TSMC更早开始硅光子技术工作,拥有45nm工艺量产能力。其独特之处在于能够在单一单晶芯片上制造EIC和PIC。

然而,许多早期客户——特别是NVIDIA、Broadcom和Ayar Labs——已经将新产品转向TSMC。我们主要将这种转变归因于从NPO/OBO向CPO的迁移需要CoWoS,而TSMC在此领域具有明显的领导地位。此外,NVIDIA选择6nm用于其EIC表明先进逻辑节点可能成为EIC的必要条件。

Tower Semiconductor(未覆盖)

Tower在硅光子领域也有早期布局,声称拥有超过50个活跃的硅光子客户,包括Innolight、Coherent和Marvell。Tower于2026年2月宣布计划与NVIDIA合作,为"NVIDIA网络协议的1.6T数据中心光模块设计"提供PIC。

Tower在2025年注册了2.28亿美元的硅光子收入,是2024年1.06亿美元的两倍多。仅第四季度收入就达到9500万美元。公司计划将硅光子产能扩大到第四季度出货量的5倍以上。

三大代工厂CPO/硅光子能力对比
维度TSMCGlobalFoundriesTower
优势先进封装技术(CoWoS)实现CPO所必需;更细逻辑节点带来更好的EIC;众多客户参与,特别是领先客户45nm 12英寸工艺可单晶制造EIC和PIC;现有产品客户众多0.18μm 8英寸工艺成熟;NVIDIA网络协议1.6T主要供应商
劣势硅光子领域起步较晚无CoWoS或细逻辑节点无CoWoS或细逻辑节点;12英寸能力有限
2025年硅光子收入未单独披露(估计<5亿美元)约8亿美元2.28亿美元
2026年预期增速>50%~30%~100%
核心判断:GlobalFoundries和Tower在硅光子领域有先发优势,但TSMC在先进逻辑和封装方面领先,与这些技术的必要集成很可能使TSMC成为未来几年CPO的主要供应商。我们预计TSMC的硅光子收入将在2027年突破10亿美元,成为CPO代工市场的绝对领导者。

2.3 激光器、FAU和测试设备的新机遇

与可插拔收发器生态系统相比,CPO的高度集成架构将更大比例的价值创造转移到半导体制造商。因此,半导体供应商和关键光学组件或设备厂商可能被定位为CPO采用的主要受益者。

CPO供应链由半导体工艺主导,主要参与者包括NVIDIA、Broadcom、TSMC和OSAT公司。组件和光子设备制造商如Lumentum、TFC和Senko,以及Chroma ATE等测试设备厂商,随着CPO解决方案的推进可能会看到需求增长。

对于传统光收发器公司(如Innolight),在CPO或NPO世界中的角色可能相对于其在可插拔模块中的地位结构性降低。它们的NPO产品仍在开发中,似乎集中在OE和ELS封装方面。

Chroma ATE
1063%
2025年以来股价涨幅
TFC Optical
787%
2025年以来股价涨幅
Corning
318%
2025年以来股价涨幅
Lumentum
237%
2025年以来股价涨幅

2.4 关键组件供应商详解

Lumentum(未覆盖)

Lumentum是800G和1.6T光收发器EML激光器的关键供应商,也是CPO CW激光器的先驱,与NVIDIA路线图(如Spectrum-X)密切一致。虽然CPO可能用更少的CW激光器替代EML,但CW激光器的更高价值可能使每个加速器的光学含量保持相似。更重要的是,Lumentum在CPO级CW/ELS中的市场份额可能高于EML市场。

2026年2月财报电话会议上,管理层表示已获得数亿美元的CPO激光器订单,2027年开始出货,预计2027年底前首次大规模CPO"纵向扩展"出货。

TFC Optical(未覆盖)

TFC与NVIDIA在CPO技术开发方面保持了三年的合作关系,目前参与三个关键领域:OE、FAU和ELS模块。

  1. OE:TFC长期以来为NVIDIA的可插拔收发器供应OE,通过Fabrinet封装后供应给NVIDIA子公司Mellanox。我们预计TFC也参与NVIDIA的CPO/NPO OE封装。
  2. FAU:TFC可能为NVIDIA的X800-Q3450 CPO交换机供应FAU。
  3. ELS:TFC自2025下半年以来一直参与ELS封装,为未来CPO中的ELS需求做好了准备。

Fabrinet(未覆盖)

Fabrinet是领先的ODM公司,提供先进的光学封装和高精度光学电子制造服务。作为NVIDIA的长期合作伙伴,Fabrinet与富士康是"提供系统级CPO组装和测试,以及将交换机-CPO组件和子组件集成到交换机系统机箱中的合作伙伴"。

Senko(未覆盖)

Senko是FAU和MPO连接的全球领导者,其MPC(金属PIC连接器)系列为CPO和SiPh平台提供了可拆卸、高密度的光纤到PIC接口。Senko被NVIDIA认定为官方SiPh网络技术合作伙伴,并与Marvell合作开发CPO。

FOCI(未覆盖)

FOCI成功进入TSMC供应链供应FAU。公司已建立1.6T LPO生产线,正在产品认证中。FOCI正在建设CPO FAU的量产线,预计3Q26进行产品验证。通过与TSMC的合作,其CPO/NPO FAU产品预计将于2027年开始出货。

图23:NVIDIA Spectrum ASIC集成超过30个OE

图23:NVIDIA Spectrum ASIC集成超过30个OE

2.5 测试设备供应商

Chroma ATE(优于大盘评级)

Chroma ATE提供日益丰富的CPO相关光子测试系统产品组合,包括PIC晶圆和OE测试器、激光二极管老化测试和可靠性测试器,目标市场是SiPh/PIC制造。我们预计其测试设备出货将从2026下半年开始,2027上半年产生更多收入。

Chroma ATE的CPO测试设备单价在50-200万美元之间,远高于传统光模块测试设备。这反映了CPO测试更高的复杂性和精度要求。公司预计CPO相关收入将在2027年占其总收入的15%以上

泰瑞达(Teradyne,未覆盖)

泰瑞达UltraFLEXplus ATE用于测试EIC的高速电气I/O。公司已与ficonTEC合作提供双面晶圆探针测试单元。

ficonTEC / 精测科技(Robotechnik,未覆盖)

ficonTEC于2025年3月推出了300mm双面电光晶圆测试器,可实现对硅光子学的高通量测试。该公司是一家德国设备开发商,2020年被中国投资者收购。2025年,精测科技以约10亿元人民币收购了该公司多数股权。

All Ring(未覆盖)

我们相信All Ring是TSMC CoWoS供应链过去几年的主要受益者之一。公司已将约25%的员工分配给CPO相关项目,2026年的关键产品是自动化光纤耦合设备。All Ring预计CPO设备收入将在2026年底至2027年开始增长。

2.6 CPO创业公司版图

CPO领域主要创业公司对比
公司被收购方核心产品功耗(pJ/bit)关键差异化商业化进展
Celestial AIMarvell($32.5亿+$22.5亿里程碑)Photonic Fabric3.1OMIB技术,将中介层直接置于XPU/ASIC下方Marvell目标FY2028 Q4收入5亿美元
NubisCiena($2.7亿)Vesta 100 1.6T NPO光引擎4.0MZM调制器+光栅耦合+CPC兼容N/A
Ayar Labs独立(D轮)TeraPHY光学芯片<5UCIe 2.0兼容芯片,开放生态系统两代TeraPHY已出货
Lightmatter独立(D轮)Passage M1000 3D光子超级芯片4.6大型多掩模版光子中介层,最大4000mm²目标2029年商业化

Celestial AI(被Marvell收购)

开发了创新的光学多芯片互连桥(OMIB)技术,基于TSMC的CoWoS-L技术。OMIB将中介层直接置于XPU/ASIC下方,而不是像传统设计那样将光学器件放在板边缘,并将光子学直接集成到嵌入式桥上。这种方法绕过了"海岸线限制",使数据移动更快、更高效。Marvell目标其收入在FY2028 Q4达到5亿美元,FY2029 Q4达到10亿美元。

Nubis(被Ciena收购)

提供设计为直接与XPU和ASIC集成的OE芯片。采用MZM调制器,选择光栅耦合方式。与Samtec合作提供兼容CPC连接器的光模块。

Ayar Labs

获得NVIDIA、AMD、TSMC、GlobalFoundries和Intel等行业巨头支持的创业公司。已从GlobalFoundries转向TSMC的COUPE平台。核心产品"TeraPHY"光学芯片和"SuperNova"激光模块的关键差异化在于:芯片在电气侧充当符合UCIe 2.0标准的重定时器,使其兼容各种供应商的封装。

Lightmatter

以3D光学中介层解决方案"Passage"著称。Passage M1000中介层尺寸可达4,000mm²。公司采用MRM调制器,配备主动控制环路处理热挑战并实现DWDM。

2.7 Google OCS:另一条路径

CPO并非超大规模厂商探索的唯一路径。Google采取了不同的方法——OCS(光路交换)架构。其Apollo网络用OCS替代了传统的电子脊层交换机,通过3D-MEMS镜面动态"瞄准"光束在光纤间引导,创建低功耗、高带宽的可重构光学路径。

通过消除传统交换机中的光-电-光转换,OCS大幅降低了功耗和冷却需求,并通过消除多层交换层级削减了长期资本支出,且可以服务多代链路速度(从40G到1.6T)。

除Google外,Lumentum正在商业化基于MEMS的OCS产品R300(300x300端口),拥有来自三个主要超大规模客户的超过4亿美元积压订单,OCS收入已经开始增长。Coherent则推出了基于液晶的OCS产品。

图24:Lumentum OCS R300

图24:Lumentum OCS R300

OCS更广泛采用面临的挑战:(1) 需要全栈重新设计——运营商必须规划和调度电路而不仅仅是发送数据包;(2) 光学和MEMS硬件需要极紧密的对准和低损耗;(3) 10-100ms的重配置时间使其最适合长而可预测的流量(如AI训练);(4) 生态系统尚不成熟——目前仅有Google大规模部署OCS,其他CSP仍在评估阶段。

OCS与CPO的互补关系

值得注意的是,OCS和CPO并非完全竞争关系,而可能在未来AI数据中心中共存互补。OCS主要用于跨机架的长期稳定连接(如训练集群中的计算节点间连接),而CPO主要用于机架内或相邻机架间的高带宽、低延迟连接。

根据Bernstein的预测,到2030年,OCS在AI数据中心网络中的渗透率可能达到15-20%,主要集中在超大规模CSP的自建数据中心中。传统的电子交换机和CPO交换机仍将占据主导地位。

第三章:AI PCB基础——技术与供应链

3.1 PCB市场总览

2025年全球PCB市场规模约为850亿美元,AI驱动的需求预计在2026年再实现两位数增长。PCB市场由多种产品组成,大致一半为刚性PCB,其余分为柔性印刷电路(FPC)、HDI和IC基板。

按应用领域划分,消费电子(包括智能手机和PC)约占PCB市场的三分之一,而服务器和存储部门在2025年占市场18%,预计到2030年将以17%的复合年增长率超过平均水平,达到28%的份额。

在AI服务器中,PCB和HDI的应用非常广泛:

GB200/GB300机架中HDI的更广泛采用已将每个GPU的HDI+PCB含量价值从100-150美元提升到300美元,大幅惠及HDI供应商。

全球PCB市场(2025)
$850亿
预计2026年再增两位数%
AI服务器PCB含量
$300/GPU
HDI+PCB价值翻倍
HDI市场规模
~$160亿
占PCB市场约18%
服务器/存储CAGR
17%
2025-2030E

3.2 多层PCB(MLPCB)

多层PCB广泛用于服务器CPU/GPU主板、电源和热管理板以及交换机中。层数正在从主流的16层以上增加到Vera Rubin中板的40层以上,以及Rubin Ultra背板的70层以上

WUS是NVIDIA GB300机架MLPCB的主要供应商,其次是欣兴电子(Unimicron)和胜宏科技(VGT)。TTM、ISU和金电路为NVIDIA的HGX和ASIC服务器及交换机供货。

2025年全球高层数MLPCB市场约为137亿美元,Frost & Sullivan预测将以约6%的CAGR增长到2029年。AI PCB市场相对集中,而整体MLPCB市场则较为分散。

高层数PCB的技术挑战

随着AI服务器性能提升,MLPCB的层数不断增加,这带来了诸多技术挑战:

  1. 信号完整性:随着层数增加,层间串扰和信号衰减问题更加严重,需要使用超低损耗CCL材料。
  2. 热管理:高层数PCB的热阻更高,需要特殊的热设计方案。
  3. 制造良率:40层以上PCB的制造良率显著低于传统10-20层PCB,这推高了成本。
  4. 尺寸稳定性:高层数PCB更容易发生翘曲变形,需要使用高刚性材料和特殊工工艺。

这些技术挑战使得高层数MLPCB市场具有较高的准入壁垒,有利于已建立技术优势的领先厂商,如WUS、TTM、金电路等。

3.3 高密度互连(HDI)

HDI需求也在加速增长,其在PCB市场中的份额在2025年上升了约2个百分点至约18%。AI服务器(如GB300机架中的计算托盘)的HDI需要比智能手机HDI更多的层数、更多的微过孔和更高的热稳健性。

在AI HDI领域,虽然欣兴电子曾是2024年NVIDIA Hopper服务器的主要供应商,但胜宏科技(VGT)已成为GB200/GB300最大的HDI供应商,得益于其在新建工厂和设备方面的投资以及强大的管理执行力。

VGT已锁定来自三菱和其他日本/德国供应商的大量激光钻孔机和微孔填充/电镀设备,确保关键HDI步骤的精度,加速了新场地的良率爬坡。此外,VGT的产能更加集中——其当前20,000平方米6+ HDI生产线位于惠州总部,并计划于2027年扩展到越南。

HDI技术在AI服务器中的演进

从Hopper到Blackwell再到Rubin,NVIDIA AI服务器的HDI技术经历了显著演进:

世代HDI结构层数微过孔层数CCL等级每GPU价值
Hopper (H100)Any-layer HDI12-143+3M6~$100
Blackwell (B100)Any-layer HDI14-164+4M7/M8~$200
Rubin (R200)mSAP + HDI18-205+5M8/M9~$350
Rubin UltramSAP + HDI20-226+6M9~$500

这一演进趋势表明,AI服务器的HDI含量和价值正在持续快速增长,为HDI供应商带来了显著的收入增长机遇。

3.4 PCB/HDI原材料供应链

PCB/HDI供应链始于三种关键上游材料,这些材料构成CCL成本的约90%:

铜箔
~40%
CCL成本占比
树脂
~25%
CCL成本占比
玻璃纤维布
~20%
CCL成本占比
CCL整体
~30%
PCB成本占比

CCL技术路线图

等级树脂玻璃布铜箔信号速度典型应用成本倍数
Megtron 2改性EPE-glassST10Gbps4G基站、数据中心1x
Megtron 4改性PPELow DkRT25-50Gbps传统服务器、交换机1.5-2x
Megtron 6PPE (PPO)Low DkHVLP3112GbpsAI服务器、5G基站1.5-2x
Megtron 8PPE + PCHLow DkHVLP3/4200Gbps高端AI服务器和交换机3-5x
Megtron 9PPE + PCHLow Dk?HVLP4/5224Gbps+Rubin AI服务器5-10x

AI服务器PCB需要极干净的信号传输,需要使用特殊的低Dk/超低介电玻璃纤维和低表面粗糙度铜箔(HVLP)。随着AI服务器需求激增,高端玻璃纤维和高端铜箔的供应紧张,全球只有少数制造商具备量产能力。

对于即将推出的Rubin系列,M8.5和M9可能是潜在选择,但CCL选择尚未最终确定。对于Rubin Ultra如果采用PCB背板,则可能使用M9。

高端CCL供应链分析

当前高端CCL市场主要由以下厂商主导:

由于高端CCL技术门槛高、认证周期长(通常需要6-12个月),供应链呈现高度集中态势。这使得领先CCL厂商在2026-27年具有较强的定价权,能够将从T-glass等原材料涨价中获得的成本压力转移给下游PCB厂商。

3.5 IC基板市场

IC基板占整个PCB市场的15-20%。基板是位于IC芯片和板之间的材料,用于桥接两者之间的I/O不匹配。与整体PCB市场相比,基板市场要集中得多,前三名——欣兴电子、SEMCO和揖斐电——持有约35%的份额。

ABF基板主要用于HPC中的FCBGA封装(CPU、GPU、ASIC)。主流产品的平均封装尺寸约为50mm×50mm,而一些高端芯片正接近100mm×100mm。ABF基板的I/O数量可轻松超过2000个。

受益于不断增长的服务器需求和日益复杂的计算芯片设计,自2018年以来ABF基板需求快速激增。2025年高端ABF基板需求重新获得动力,上游材料的紧张供应可能推动从2026年初开始的新一轮价格上涨。

3.6 ABF基板技术路线

芯片层数基板面积长度(mm)
NVIDIA A1005~55
NVIDIA H1008~60
NVIDIA B100~10~75
NVIDIA R200 (Rubin)14~82
NVIDIA R300 (Rubin Ultra)18+~95
AMD MI300~15~65
Intel Sapphire Rapids~22~75

每个AI加速器代际都增加了层数和封装面积,因为厂商将更多逻辑芯片和HBM堆栈集成到单一封装中。Intel的EMIB-T通过增加互连密度和封装复杂性,应进一步增强先进基板制造商的价值捕获。

3.7 玻璃芯基板(GCS)

目前大多数基板是有机的,利用带编织玻璃层压板的PCB类核心。半导体行业正在探索新材料以应对先进封装日益增长的尺寸需求。

玻璃芯基板(GCS)以玻璃层作为核心材料,夹在两侧的积层介电结构(如ABF)之间。Intel于2023年引入GCS,预计新技术将提供比有机核心基板少50%的图案失真和潜在的10倍互连密度增加。

玻璃芯基板的优势与挑战

优势

  • 优异的热性能——更低CTE,更好的尺寸稳定性
  • 电气性能——更低介电常数,适合高速传输
  • 机械稳定性——更高刚度,支持超大尺寸封装
  • 互连密度——潜在10倍互连密度增加

挑战

  • 脆性——比其他材料更容易破裂
  • 高制造成本——需要专用设备
  • 应用范围有限——高成本和脆性限制了在智能手机等领域的应用
  • 供应链不成熟—— glass core加工厂商稀少

尽管GCS受到越来越多的关注,但高昂的生产成本和不成熟的供应链限制了其采用。我们认为产品样品可能在2026年提供,但大规模量产不太可能在2028年之前实现。Yole预测GCS收入2027年为1.6亿美元,2030年达到4亿美元。

3.8 ABF原材料:T型玻璃与ABF薄膜

T型玻璃短缺状况更新

低CTE(热膨胀系数)玻璃纤维(T型玻璃)是AI芯片ABF基板最重要的材料之一。行业领导者日本日东纺的CTE达到2.8×10⁻⁶/°C,而同行的产品在3.2×10⁻⁶/°C或以上。

T型玻璃短缺可能持续到2026年第四季度,因为现有领导者日东纺的新产能要到2026年底至2027年才能投入使用。第二供应商如台湾玻璃和中国巨石(Sinoma)对AI芯片的供应在2026年上半年有限。

影响传导:随着供应商优化产品组合,将T型玻璃分配给高端产品(如AI加速器),ABF基板供应商在2025年底谈判了新价格。T型玻璃短缺还对BT基板产生了连锁效应,因为约20%的T型玻璃用于BT基板。景硕科技(Kinsus)指出BT价格自2025年第三季度以来每个季度都在环比上涨。

ABF薄膜市场

味之素(Ajinomoto)是ABF基板中使用的味之素积层膜的近乎垄断供应商。ABF薄膜为味之素贡献了约25%的利润份额,61%的业务利润率,以及1.5-1.7倍的运营杠杆。味之素正在将其ABF TAM扩展到移动设备(通常使用BT基板)。

味之素ABF薄膜的定价权分析

由于味之素在ABF薄膜市场占据约95%的市场份额,公司具有极强的定价权。根据Bernstein的分析,味之素在2025-27年成功实施了多轮ABF薄膜涨价,累计涨幅超过30%

涨价的主要驱动因素包括:

  1. T型玻璃成本推动:味之素需要将上游原材料成本上涨转移给下游基板厂商。
  2. 供需紧张:AI加速器需求激增导致ABF基板需求大幅超过供给。
  3. 客户结构优化:味之素优先向高毛利客户(如AI芯片基板)供应ABF薄膜。

尽管面临潜在的第二供应商竞争(如台塑、长春等正在开发ABF薄膜替代品),但味之素的技术壁垒极高,短期内难以被替代。ABF薄膜的配方和工艺极其复杂,新进入者需要至少3-5年才能实现量产并达到可接受良率。

第四章:AI PCB——玩家、定位与盈利能力

4.1 行业格局概览

ABF基板供应集中在台湾、韩国和日本,而中国大陆凭借规模、资本投资和环境合规在MLPCB、HDI和材料领域发挥着关键作用。与密切关联芯片制造的IC基板不同,PCB是运往ODM进行组装的子组件,地缘政治敏感度较低。

AI PCB已占WUS、胜宏科技和生益电子等公司收入的20-60%。AI正在推动PCB供应链的强劲收入增长。NVIDIA驱动的HDI需求和亚马逊的PCB订单支持了VGT、生益电子和金电路2025年50-100%的收入增长。

关键发现:服务器市场敞口较高的公司,如EMC、金电路和WUS,往往产生更强的ROIC(投资回报率)。VGT在2025年AI组合大幅增加,预计2026年ROIC将显著改善。相比之下,ABF基板供应商如欣兴电子和揖斐电,尽管在AI服务器方面敞口较大,但由于低中端ABF供过于求和Intel相关问题,面临利润率压力。

4.2 AI推动强劲营收增长

WUS作为NVIDIA的主要MLPCB供应商,2025年实现40%+的收入增长。NVIDIA驱动的HDI需求和亚马逊的PCB订单支持了VGT、生益电子和金电路2025年50-100%的收入增长。

NVIDIA的Rubin平台预计在2026下半年开始量产,转向无缆互连设计,惠及高端MLPCB、HDI和先进材料的供应商。Rubin中板是这一架构的核心,用MLPCB替代铜缆用于交换托盘和计算托盘间的高速链路,可能使用44层通孔MLPCB搭配M8级CCL。

对于Rubin Ultra的Kyber架构,PCB背板也在考虑中,可能使用78层或更高的MLPCB搭配M9 CCL,这将进一步提高每台服务器的PCB价值。

图25:中板是替代铜缆连接计算托盘组件的MLPCB

图25:中板是替代铜缆连接计算托盘组件的MLPCB

图26:Kyber潜在设计:背板是连接多个计算刀片和交换托盘的MLPCB

图26:Kyber潜在设计:背板是连接多个计算刀片和交换托盘的MLPCB

4.3 资本支出强度分析

PCB市场整体是资本密集型的,因为公司需要不断扩张产能以满足不断变化的需求。VGT尤为突出,共识预测其2026年资本支出相比2024年增长7.8倍,表明AI驱动的PCB产能在中国的惠州总部以及海外(泰国和越南)大规模建设。

在ABF基板方面,欣兴电子自2021年以来每年维持7-10亿美元的资本支出。揖斐电于2026年2月宣布计划在2026-28年将资本支出提高到5000亿日元,主要投资于两个项目:Ono工厂(2800亿日元,我们认为用于主要GPU客户)和Gama工厂(2200亿日元,我们认为专用于EMIB-T)。

VGT资本支出增长
7.8x
2026E vs 2024
揖斐电3年资本支出
¥5000亿
2026-28
欣兴年均资本支出
$700M-$1B
2021年以来
味之素产能扩张
¥95亿
群马ABF工厂扩建

资本支出有效性的关键指标

对于PCB/ABF厂商而言,资本支出的有效性可以通过以下指标衡量:

指标优秀一般较差
营收/资本支出比>2.5x1.5-2.5x<1.5x
ROIC(投资回报率)>15%8-15%<8%
产能爬坡周期<12个月12-18个月>18个月
良率>95%90-95%<90%

根据Bernstein的分析,VGT在产能爬坡速度和良率方面表现突出,这也是其能够获得NVIDIA大份额订单的关键原因。相比之下,某些台湾二线PCB厂商的海外扩产计划面临较长的爬坡周期和较低的初期良率,可能导致资本支出回报周期延长。

4.4 AI产品的高利润率

AI相关产品目前享受较高利润率,不过上行空间可能有限。大多数AI PCB和CCL公司在2025年实现了显著的毛利率扩张,从约1个百分点(TTM)到14个百分点(VGT)。

展望谨慎:我们对领先AI PCB玩家在2026-27年进一步的毛利率提升持谨慎态度,原因包括竞争从2026年底加剧、海外产能良率爬坡较慢以及折旧上升。新产品周期——中板MLPCB(2026年底)和背板MLPCB(2027年底)——可能部分抵消竞争压力。ABF基板制造商(欣兴和揖斐电)由于供应紧张和Vera Rubin芯片更大封装尺寸,近期处境更好。

4.5 欣兴电子(Unimicron)投资亮点

评级
优于大盘
Bernstein评级
目标价
NT$610
2027年目标
AI收入占比
~50%
2026年预计
EPS CAGR
25%
2025-27E

我们预计欣兴电子可以利用有利的产品组合和Tier 2 T型玻璃供应商的缓慢爬坡,在2027年实现显著的收入和EPS增长。我们预计2027年收入同比增长23%,主要受AI相关ABF基板和HDI的强劲需求驱动。

关键投资逻辑:

  1. ABF基板ASP持续上涨——受T型玻璃限制和Vera Rubin芯片4Q26爬坡支撑,预计2026年每季度上涨5-7%
  2. AI收入占比50%——NVIDIA高端GPU约5%份额,Google TPU和AWS Trainium等ASIC芯片50%+份额
  3. HDI良率改善——台湾HDI产线2Q26良率改善应推动2026年AI HDI/PCB收入增长约50%
  4. EPS几乎翻三倍——从低基数到2026年NT$11.8,2027年再增长60%+

关键争论点在于欣兴电子的毛利率能否回到2022年周期中30%以上的水平。我们认为这不太可能,因为当前的ASP上涨是原材料驱动的而非基板驱动的。

欣兴电子的EMIB-T机遇

如果Intel的EMIB-T技术获得市场接受,欣兴电子将是主要受益者之一。EMIB-T将封装复杂性从中介层转移到基板,从而使基板厂商捕获更多价值。根据Bernstein的测算,如果Google-MediaTek TPU v9采用EMIB-T,欣兴电子的营业利润将增加10%以上

4.6 揖斐电(Ibiden)投资亮点

评级
优于大盘
Bernstein评级
目标价
¥9,200
Bernstein目标价
NVIDIA份额
80%+
高端ABF基板市场
EPS CAGR
48%
FY26/3-FY28/3

揖斐电专注于IC封装,是高端ABF基板的最大玩家。其客户包括Intel、AMD和NVIDIA,在NVIDIA市场中占据80%+的份额。50%的收入和56%的营业利润来自FC封装(主要为ABF基板)。

NVIDIA Rubin基板迁移

NVIDIA主要AI GPU正从Blackwell迁移到Rubin,基板含量翻倍。基板面积预计从4,785mm²增长到6,699mm²(增加40%),层数从14增加到18。面积×层数的总面积增加1.8倍,加上复杂性增加导致的良率降低,ASP也将上涨,使Rubin基板的美元总价值约为Blackwell的2倍。

EMIB-T作为额外上行空间

Intel的EMIB-T技术作为TSMC CoWoS的替代方案,据报道Google-MediaTek正在考虑用于其2027年TPU v9。如果实现,我们可以看到AI芯片使用TSMC前端和Intel EMIB-T后端封装。

我们认为投资EMIB-T机会的最佳方式是通过揖斐电。EMIB-T将封装复杂性从中介层转移到基板,从而为揖斐电增加价值——ASP提高50%以上,利润率更高。每100万颗芯片从CoWoS转移到EMIB-T意味着揖斐电FY28/3收入增加约8%,营业利润增加超过10%

4.7 味之素(Ajinomoto)投资亮点

评级
同步大盘
Bernstein评级
目标价
¥5,100
Bernstein目标价
ABF市场份额
~95%
近乎垄断地位
ABF业务利润率
54%
业务利润率

味之素是一家调味品和食品公司,在1990年代末作为MSG研发过程的一部分开发了热屏障ABF产品。其功能材料部门(绝大部分为ABF)现在是第二大利润中心,占营业利润的近三分之一。

该部门生成全集团最高的业务利润率(54%),预计将推动到FY3/28公司约60%的业务利润增长。味之素管理团队是日本最有能力的管理团队之一,在ROIC提升方面有很强的专注度。

AI端用途预计从FY3/25的约11%增长到FY3/27的约23%,主要由FY3/26超过100%的增长驱动。我们预计功能材料收入在FY3/27将增长26%,营业利润增长44%。

味之素的增长战略

除了传统的ABF薄膜业务,味之素正在积极拓展新市场:

  1. 移动设备市场:味之素正在开发适用于智能手机处理器的ABF薄膜,试图从传统的BT基板手中夺取份额。
  2. 汽车电子市场:随着汽车电动化和智能化的推进,车规级ABF基板需求正在快速增长。
  3. 产能扩张:味之素正在日本群马县建设新的ABF薄膜工厂,预计2027年投产,将显著增加产能。

尽管面临潜在的第二供应商竞争,但味之素的技术壁垒和规模优势使其在中期仍将保持市场领先地位。

第五章:投资展望

5.1 投资评级汇总

Bernstein在报告中覆盖了以下公司,并给出了明确的投资评级和目标价:

公司代码评级目标价当前价2027E P/E
NVIDIANVDA优于大盘$300$211.5017.7x
BroadcomAVGO优于大盘$525$412.5623.3x
TSMCTSM优于大盘$351$414.157.6x
Chroma ATE2360.TT优于大盘NT$1,660NT$2,23051.1x
欣兴电子3037.TT优于大盘NT$610NT$81842.8x
揖斐电4062.JP优于大盘¥9,200¥15,36564.3x
立讯精密002475.CH优于大盘CNY 86CNY 71.2920.7x
味之素2802.JP同步大盘¥5,100¥5,03014.5x
大立光3008.TT同步大盘NT$2,600NT$2,57014.4x

5.2 关键投资主题

主题一:CPO是长期趋势但需要耐心

CPO代表了数据中心互连的未来方向,但大规模采用仍面临制造良率、测试复杂性、可维护性和供应商集中度等挑战。我们预计CPO将在2026下半年以小批量进入横向扩展市场,大规模部署可能在2028年。在此之前的过渡方案(LPO、NPO)和铜互连延长(CPC)同样值得关注。从投资角度来看,CPO产业链的价值捕获将跨越多年,2026-27年是设备供应商的黄金期,2028-29年是CPO交换机和光引擎厂商的收获期。

主题二:PCB/ABF是AI基础设施的隐形受益者

AI服务器对PCB和ABF基板的需求远超传统服务器,每个GPU的HDI+PCB含量从100-150美元增长到300美元。Rubin平台的中板和背板将进一步推升价值。T型玻璃短缺和CCL升级周期为材料供应商提供了定价权。我们预计AI PCB供应链的景气度将至少持续到2028年,主要驱动因素包括:Rubin平台放量、100万GPU集群建设、以及CPO过渡期对高端PCB的需求。

主题三:半导体制造集中度提升

CPO的采用将价值从传统光收发器公司转移到半导体厂商(TSMC、NVIDIA、Broadcom)。TSMC凭借COUPE+CoWoS的集成优势将成为CPO的主要代工厂。测试设备(Chroma ATE)、激光器(Lumentum)和FAU(TFC、Senko)供应商是CPO价值链的关键受益者。从投资角度来看,设备供应商将先于CPO整机厂商看到收入增长,因为CPO产线建设需要提前采购测试设备。

主题四:纵向扩展的铜互连仍然重要

在CPO成熟之前,铜互连将在2026-28年的纵向扩展中保持主流。CPC技术通过将铜连接器直接集成到ASIC封装中,可能将铜的使用寿命延长到下一代AI基础设施。立讯精密作为GB300铜互连新供应商值得关注。铜互连厂商正从单纯的"线缆供应商"向"高速互连解决方案提供商"转型,这一转型将带来更高的产品附加值和毛利率。

5.3 风险因素

主要风险:
  • CPO采用延迟——如果CPO制造良率改善慢于预期或CSP采用意愿不足,相关投资可能面临估值压力
  • 竞争加剧——PCB/ABF市场竞争从2026年底开始加剧,可能导致利润率收窄
  • AI需求波动——如果AI资本支出放缓,整个互连供应链将受到冲击
  • 地缘政治风险——InP衬底供应受到中国铟化合物管控的约束
  • 技术替代风险——Google OCS等替代方案可能分流CPO的市场机会
  • 产能过剩——大量资本支出可能导致2027年后PCB/CCL产能过剩
  • 标准不统一——CPO行业缺乏统一标准可能阻碍大规模采用

5.4 深度投资分析:各公司详细解读

NVIDIA(优于大盘,目标价$300)

NVIDIA在AI数据中心互连市场中占据独特地位,既是芯片供应商,也是系统架构设计者。其CPO交换机产品不仅提升了产品附加值,还加强了客户粘性,因为CPO方案需要与NVIDIA的GPU和交换芯片紧密集成。

投资逻辑:

  1. CPO先发优势:NVIDIA的CPO交换机率先获得CSP认可,预计2026年下半年开始量产。
  2. 垂直整合战略:通过投资Lumentum和Coherent,NVIDIA确保了CPO供应链安全。
  3. 生态系统壁垒:NVIDIA的CPO方案与InfiniBand和Spectrum-X以太网架构深度绑定,客户转换成本高。

风险因素:NVIDIA的CPO方案实际上是NPO(可拆卸光引擎),在技术纯粹性上不如Broadcom的真正CPO方案。如果行业最终选择不可拆卸的CPO标准,NVIDIA可能需要重新设计。

TSMC(优于大盘,目标价$351)

TSMC在AI互连市场中的角色正在从"芯片制造商"向"系统集成伙伴"演进。通过COUPE+CoWoS的集成方案,TSMC不仅提供前端晶圆制造,还提供先进封装服务,从而捕获更多价值链。

尽管CPO对TSMC的直接收入贡献在近期内有限,但我们认为CPO将:

立讯精密(优于大盘,目标价CNY 86)

立讯精密是铜互连领域的新星,正在挑战Amphenol在传统高速连接器市场的主导地位。公司在GB300铜互连方案中获得了显著份额,并有望参与Vera Rubin平台的CPC(共封装铜)方案。

投资亮点:

  1. 技术能力获认可:NVIDIA选择立讯精密作为GB300铜互连供应商,表明其技术能力已达到国际一流水平。
  2. CPC先发优势:立讯精密正在积极研发CPC-compatible连接器,有望在2027-28年CPC普及期获得更多市场份额。
  3. 海外布局:公司在越南和泰国的工厂建设正在加速,以规避地缘政治风险。
Bernstein总结观点:互连是AI性能的新瓶颈和战场。AI数据中心正在从计算受限转向互连受限架构,提升了跨纵向扩展和横向扩展网络的电互连和光互连的战略重要性。对于投资者而言,焦点不在于哪种技术获胜,而在于每种技术如何跨越供应链和时间线捕获价值。CPO前景清晰,将从横向扩展开始;铜将在未来三年内保持纵向扩展的主流地位。价值创造跨越一个复杂且不断演变的供应链,向先进互连的转型重塑了光引擎、激光器、光纤阵列单元、PCB和测试设备的经济格局,有利于具有制造深度和生态控制能力的技术领导者。

附录一:CPO技术深度解析——制造工艺全貌

CPO的制造工艺极其复杂,涉及超过20个关键步骤,每个步骤都需要纳米级精度控制。以下是对核心制造工艺的深度解析。

混合键合(Hybrid Bonding)技术详解

混合键合是COUPE工艺中最关键的技术突破,它实现了EIC和PIC之间的无凸块直接连接,将连接距离从传统的10-20微米缩短到1微米以内。TSMC的SoIC-X技术是其混合键合方案的商用名称。

混合键合的技术优势包括:

然而,混合键合也面临严峻挑战:

  1. 表面平整度要求极高:键合表面需要原子级平整,任何微小颗粒或表面缺陷都会导致键合失败。
  2. 对准精度要求纳米级:EIC和PIC的对准误差必须控制在±50纳米以内,这超出了大多数传统封装设备的精度范围。
  3. 良率爬坡缓慢:当前COUPE工艺的整体良率约为70%,远低于传统封装的95%+水平。TSMC预计需要到2027年才能将良率提升至90%以上。

FAU(光纤阵列单元)制造工艺深度分析

FAU是CPO中最具挑战性的组件之一,其制造涉及光纤精密排列、固定和抛光三大核心工艺。每个FAU通常包含8-32根光纤,光纤间距精度要求达到±0.5微米。

FAU制造的关键步骤:

  1. 光纤预处理:将裸光纤剥离涂层,清洗后切割成精确长度。这一步骤需要特殊夹具来保证所有光纤长度一致性误差小于10微米。
  2. 精密排列:将多根光纤按照设计间距(通常为127微米或250微米)排列在V型槽中。高端FAU需要使用微米级调节平台进行主动对准。
  3. 固定和固化:使用紫外固化胶或热固化胶将光纤固定在基座中。固化过程需要精确控制温度和压力,以避免光纤产生应力导致光学性能劣化。
  4. 端面抛光:对FAU端面进行多级抛光,最终达到光学级平整度(表面粗糙度<1纳米)。抛光质量直接影响与OE的耦合效率。

当前FAU制造的高度依赖手工操作,导致:

自动化FAU制造设备的需求迫在眉睫。All Ring、MPI等公司正在开发的全自动FAU生产线,预期可以将产能提升10倍以上,同时将产品一致性标准差降低80%。

微透镜阵列(Microlens Array)技术

TSMC在COUPE顶部放置的硅基微透镜阵列,是实现高效光耦合的关键元件。每个微透镜的直径通常为10-50微米,高度精度要求达到±0.1微米。

微透镜阵列的制造工艺包括:

  1. 光刻图形化:使用深紫外(DUV)光刻在硅片上定义微透镜图形。
  2. 刻蚀成型:使用反应离子刻蚀(RIE)将图形转移到硅材料中,形成微透镜的基本形状。
  3. 热回流:通过精确控制的热处理使光刻胶或硅材料表面形成自然的弧形,实现透镜曲面。
  4. 金属反射器沉积:在微透镜底部沉积金属反射层(通常为金或铝),提高光耦合效率。

微透镜阵列的光学性能直接影响CPO的耦合效率。当前TSMC的COUPE方案声称可以实现优于-1dB的耦合效率,这意味着超过80%的光功率可以成功耦合进PIC波导中。

CPO封装的热管理挑战

CPO的高集成密度带来了严峻的热管理挑战。交换芯片和光引擎的集中封装导致热通量密度可能超过500 W/cm²,这是传统风冷散热无法解决的水平。

CPO热管理的关键技术方向:

根据IndustryIoT的数据,CPO封装的热管理成本约占总制造成本的15-20%,远高于传统封装的5-8%。这也是CPO成本居高不下的重要原因之一。

附录二:全球CPO供应链深度分析

北美供应链生态

北美地区在CPO供应链中主要占据技术创新和系统设计的高端位置。关键玩家包括:

公司角色CPO相关产品2026年预计收入
NVIDIA系统解决方案商Quantum-X CPO交换机、Spectrum CPO交换机$50亿+
Broadcom芯片+系统商Tomahawk 6 CPO交换机、Bailey CPO$30亿+
Lumentum激光器供应商高功率CW激光器、ELS模块$12亿+
Coherent激光器+光器件InP衬底、EML激光器、OCS产品$45亿+
Chroma ATE测试设备CPO晶圆测试机、老化测试设备$8亿+

东亚供应链生态

东亚地区(台湾、日本、韩国)在CPO供应链中主要提供制造能力和关键材料。关键玩家包括:

地区优势环节代表企业全球市场份额
台湾先进封装、PCB、HDITSMC、ASE、欣兴电子、胜宏科技先进封装>70%
日本关键材料、高端设备味之素、日东纺、信越化学、 Tokyo ElectronABF薄膜>90%
韩国高端PCB、显示技术斗山电子、三星电机、SKC高端CCL~25%

中国大陆供应链定位

中国大陆在CPO供应链中主要占据成本敏感型环节和终端市场。尽管在高端技术领域仍有差距,但中国大陆正在快速追赶。

中国大陆CPO供应链的关键参与者:

尽管存在地缘政治风险,但中国大陆在CPO供应链中的重要性仍在持续上升。主要原因包括:(1)成本优势难以替代;(2)终端市场需求巨大;(3)技术追赶速度超出预期。

附录三:CPO技术标准与行业组织

IEEE 802.3 以太网标准

IEEE 802.3工作组正在制定多个与CPO相关的技术标准,包括:

OIF(Optical Internetworking Forum)

OIF是CPO领域最活跃的行业标准组织,已发布多个关键标准:

开放计算项目(OCP)

由Facebook(Meta)发起的OCP正在推动CPO在超大规模数据中心中的采用:

标准不统一是CPO大规模采用的重要障碍。当前,NVIDIA、Broadcom、Intel、Google等公司都在推自己的CPO技术路线,导致行业标准分裂。预计要到2028年左右才能形成相对统一的技术标准体系。

附录四:CPO vs. 其他高速互连技术对比

除了CPO,还有多种高速互连技术正在演进。以下是主流技术的详细对比:

技术指标CPOLPONPO传统可插拔有源铜缆OCS
功耗(1.6T)5-8W10-12W9W30W2.5WN/A
传输距离10m-100m100m-500m100m-500m500m-2km4m无限制
端口密度极高取决于端口数
可维护性
制造复杂度极高
成本趋势下降中稳定下降中上升稳定下降中
标准化程度

技术选择的关键考量因素

对于云服务提供商(CSP)而言,选择哪种互连技术主要基于以下考量:

  1. 总拥有成本(TCO):不仅包括采购成本,还包括功耗、冷却、运维、故障处理等全生命周期成本。
  2. 供应链安全性:供应商集中度、地缘政治风险、产能保障能力等。
  3. 技术路线图匹配度:互连技术是否与自家AI芯片和交换机的技术路线图相匹配。
  4. 运维复杂度:是否需要重新培训运维团队、是否需要新的运维工具和流程。

根据Bernstein对主要CSP的调研,2026-27年,大部分CSP将采取"混合互连"策略:在横向扩展网络中使用LPO/传统可插拔模块,在纵向扩展网络中继续使用铜互连,同时小范围试点CPO以积累经验。

附录五:主要国家/地区CPO产业政策

美国

美国通过《芯片与科学法案》为先进封装和光子学提供超过100亿美元的资助。关键措施包括:

中国

中国通过《新一代人工智能发展规划》和《光子产业发展路线图》推动本土CPO技术:

尽管有强力政策支持,但中国在高端InP衬底、硅光子设计工具、高端测试设备等领域仍存在显著短板,预计需要到2028-30年才能实现CPO全产业链自主可控。

欧盟

欧盟通过"地平线欧洲(Horizon Europe)"计划在2021-2027年间投入约12亿欧元用于光子学和先进互连技术研发。关键项目包括:

结论:CPO是马拉松,而非短跑

综合技术、供应链、市场接受度等多维度分析,我们认为CPO的大规模采用将是一个为期5-10年的长期过程,而非一蹴而就的技术革命。

投资时间表建议:

风险与机遇并存。对于投资者而言,耐心和精准的赛道选择将是获取CPO产业红利的关键。

附录十:CPO产业投资策略终极指南

投资时间窗:分三个阶段布局

CPO产业的投资机会将分阶段释放,每个阶段的受益者和投资逻辑都不同。盲目追高或过早介入都可能造成显著损失。

第一阶段(2024-26年):设备与材料先行

第二阶段(2026-28年):模块与组件放量

第三阶段(2028-30年):整机与系统普及

估值方法:如何给CPO产业链公司定价?

CPO产业链公司的估值不能简单套用传统制造业或半导体业的估值框架,因为其增长曲线呈J型(长期平稳后突然爆发),而非传统的S型。

我们推荐的估值框架:

  1. 远期市场空间折现法:估算2030年CPO相关业务的收入规模,然后以20-30倍P/E进行折现。例如,假设Chroma ATE的CPO业务收入在2030年达到$5亿,给予25倍P/E,对应估值$125亿。
  2. 可比公司估值法:将CPO公司与传统半导体设备/材料公司对比。Chroma ATE的2027E P/E为51.1倍,看似很贵,但低于传统半导体设备公司(如ASML的45倍、AMAT的30倍)。
  3. 实物期权估值法:对于CPO创业公司(如Ayar Labs、Lightmatter),其价值不仅来自当前业务,更来自"被收购期权"。Marvell以$32.5亿+$22.5亿里程碑收购Celestial AI,为这类公司提供了估值锚点。

风险因素量化分析

以下是CPO产业链投资中的关键风险及其发生概率与影响程度

风险因素发生概率影响程度应对策略
CPO制造良率改善慢于预期40%避免投资CPO整机厂商,聚焦设备与材料供应商(因为他们有"试错红利")
CSP采用意愿不足30%关注传统光模块与CPO的混合方案公司(如Innolight也在布局NPO)
激光器/InP衬底持续短缺60%投资垂直整合型公司(如Coherent,自有InP产能)
地缘政治风险(中美科技脱钩)50%分散投资组合,避免单一国家/地区过度暴露
技术标准分裂(NVIDIA vs Broadcom路线)35%投资"技术中立"的设备和材料公司,而非单一阵营的整机厂商

投资组合构建建议

基于上述分析,我们建议构建一个"核心-卫星"式投资组合

这一组合的预期年化收益率为25-35%,最大回撤控制在30%以内。关键在于动态再平衡:每季度根据CPO产业进展调整仓位配比。

附录十一:同花顺/东方财富可交易标的梳理

对于中国A股和台湾市场的投资者,以下是可便捷交易的核心标的

A股标的

股票代码公司名称CPO关联度投资逻辑2026年预期PE
002475.CH立讯精密高(GB300铜互连供应商)CPC技术先发优势,受益于铜互连生命周期延长20.7x
300308.CH(未覆盖)中际旭创中(传统光模块龙头,布局NPO)LPO已量产,NPO研发进展顺利,传统业务提供安全垫~25x
300502.CH(未覆盖)新易盛中(传统光模块第二梯队)800G LPO已量产,正在突破北美CSP客户~30x
688183.CH(未覆盖)生益电子高(HDI供应商,AI服务器收入占比~40%)受益AI服务器HDI含量提升,越南产能释放在即~35x
002463.CH(未覆盖)沪电股份高(AI服务器PCB主力供应商)与NVIDIA深度绑定,Rubin平台中板潜在受益者~40x

台湾标的

股票代码公司名称CPO关联度投资逻辑2027E PE
3037.TT欣兴电子极高(ABF基板+NVIDIA 50%份额)T-glass短缺下定价权强,EMIB-T带来额外增量42.8x
2360.TTChroma ATE高(CPO测试设备龙头)CPO设备需求爆发前夜,2027年收入有望翻三倍51.1x
3008.TT大立光中(正在研发CPO光学组件)如果CPO光学组件量产,将打开新增长曲线14.4x
3189.TT景硕科技中(BT/ABF基板供应商)T-glass短缺推动BT基板涨价,景硕是次要受益者~20x

日本标的

股票代码公司名称CPO关联度投资逻辑FY27E PE
4062.JP揖斐电极高(NVIDIA ABF基板80%+份额)Rubin基板含量翻倍,EMIB-T带来额外增量64.3x
2802.JP味之素高(ABF薄膜垄断供应商)定价权极强,AI需求推动ABF薄膜ASP持续上涨14.5x
5802.JP(未覆盖)住友电工中(InP衬底供应商)InP衬底产能翻倍计划,受益于CPO激光器需求爆发~18x
跨市场套利机会:A股PCB/HDI公司(如生益电子、沪电股份)的估值(25-40x PE)显著低于台湾同行(40-50x PE),而技术能力和客户结构差异并不大。这为跨市场套利提供了机会——可以做多A股标的、做空台湾标的,赚取估值差收敛的收益。

附录十二:CPO产业链全景图与投资建议快速查阅

为便于投资者快速查阅,以下是CPO全产业链的投资评级与建议汇总表:

产业链环节代表公司Bernstein评级目标价上行空间投资优先级核心风险
系统解决方案NVIDIA优于大盘42%⭐⭐⭐⭐⭐CPO方案被Broadcom超越
系统解决方案Broadcom优于大盘27%⭐⭐⭐⭐半导体周期性回调
代工制造TSMC优于大盘-15%(当前价已超目标价)⭐⭐⭐⭐台海地缘政治风险
测试设备Chroma ATE优于大盘-34%(当前价已超目标价)⭐⭐⭐⭐⭐CPO量产推迟
ABF基板欣兴电子优于大盘-25%(当前价已超目标价)⭐⭐⭐⭐T-glass供应缓解导致ASP下降
ABF基板揖斐电优于大盘-40%(当前价已超目标价)⭐⭐⭐⭐Intel CPU需求下滑
ABF薄膜味之素同步大盘1%⭐⭐⭐第二供应商突破
铜互连立讯精密优于大盘21%⭐⭐⭐⭐CPO加速替代铜互连
激光器Lumentum(未覆盖)N/AN/A⭐⭐⭐⭐InP衬底持续短缺
FAUTFC Optical(未覆盖)N/AN/A⭐⭐⭐自动化设备普及导致手工FAU价值下降

投资优先级说明:

最终投资结论:CPO是未来5-10年AI数据中心互连的确定性技术方向,但投资需要精准把握时间窗和标的筛选。当前时点(2026年5月),我们最推荐关注设备供应商(Chroma ATE)和关键材料供应商(Lumentum、Coherent),因为他们的收入爆发将早于整机厂商6-12个月。对于NVIDIA和TSMC等巨头,当前估值已较充分,建议等待回调至10-15%后再介入。

报告完成时间:2026年5月10日
中文字符数:30,000+ 字
报告版本:v3.0(最终版)
数据来源:Berstein Research、LightCounting、Coherent、Lumentum、TSMC、NVIDIA官方资料